In situ analysis of PMPSi by spectroscopic ellipsometry and XPS

• Název česky: Analýza PMPSi metodou spektroskopické elipsometrie a XPS
• Autoři: ČECHAL Jan; TICHOPÁDEK Petr; NEBOJSA Alois; BONAVENTUROVÁ ZRZAVECKÁ Olga; URBÁNEK Michal; SPOUSTA Jiří; NAVRÁTIL Karel; ŠIKOLA Tomáš
• Rok publikování: 2004
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Surface and Interface Analysis
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika pevných látek a magnetismus
• Klíčová slova: spectroscopic ellipsometry; x-ray photoelectron spectroscopy; XPS; polysilanes; PMPSi
• Popis: Sledovali jsme působení UV záření a zvýšené teploty na tenké vrstvy PMPSi v reálném čase pomocí spektroskopické elipsometrie a XPS. Tyto dva vlivy byly aplikovány na vrstvy v prostředí vysokého vakua a v kyslíkové atmosféře. Z výsledků této studie vyplývá, že Si-Si vazby, tvořící páteř polymeru, jsou rozbíjeny především působením UV záření. Po rozbití vazeb a následném zesíťování polymeru nedochází ke zpětnému posunu v elipsometrických spektrech. Působení UV záření a současné zahřívání vzorku na teplotu okolo 80C v kyslíkové atmosféře vede k silnější degradaci vrstvy PMPSi. To může být spojeno s uvolněním methylových skupin od páteře polymeru.