Informace o publikaci
Nucleation and Precipitation of Interstitial Oxygen in Czochralski Silicon
| Název česky | Nukleace a precipitace intersticiálního kyslíku v Czochralského křemíku |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2006 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Proceedings of The Tenth Scientific and Business Conference SILICON 2006 |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | Nucleation; Precipitation; Interstitial oxygen; Silicon; Infrared absorption |
| Popis | Ke studiu intersticiálního kyslíku a kyslíkových precipitátů v sérii vícestupňově žíhaných křemíkových vzorků jsme použili infračervenou absorpční spektroskopii. Převzali jsme Hamovu teorii difúzí řízené precipitace. Potom jsme mohli z úbytku koncentrace Oi během vysokoteplotního žíhání stanovit koncentraci kyslíkových precipitátů ve vzorcích. Pro naměření map reciprokého prostoru těchto vzorků jsme použili trojosou rtg difrakci s vysokým rozlišením. |
| Související projekty: |