Informace o publikaci
Structural properties of ultra-low-energy ion-implanted silicon studied by combined X-ray scattering methods
| Název česky | Strukturní vlastnosti křemíku po nízkoenergetické implantaci |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2006 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Journal of Applied Crystallography |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | Structural properties of ultra-low-energy ion-implanted silicon studied by combined X-ray scattering methods |
| Popis | Strukturní vlastnosti křemíku po nízkoenergetické implantaci |