Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process

• Název česky: Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje
• Autoři: DVOŘÁK Pavel; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• www: http://www.escampig2008.csic.es/
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: magnetron; reactive sputtering; plasma; discharge; higher harmonics
• Popis: Kontrola reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření základní a vyšších harmonických frekvencí výbojových napětí.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev