Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process

• Název česky: Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování
• Autoři: VAŠINA Petr; HYTKOVÁ Tereza; ELIÁŠ Marek
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: reactive magnetron sputering; target
• Popis: Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování, sborník, mezioborova studie fyzika plazmatu

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev