Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density

• Název česky: Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu
• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr; ELIÁŠ Marek
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Chemické Listy
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: reactive magnetron sputtering
• Popis: Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu, článek, mezioborova studie

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev