Informace o publikaci
Precise measurement of thickness distribution of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometry
| Název česky | Přesné měření rozdělení tloušťěk neuniformních vrstev zobrazovací spektrofotometrií |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2009 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Proceedings of IMEKO XIX World Congress |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Optika, masery a lasery |
| Klíčová slova | non-uniform thin films; imaging spectroscopic reflectometry |
| Popis | Je představena nová metoda zobrazovací spektroskopické fotometrie nám umožňuje provést úplnou optickou charakterizaci tenkých vrstev vykazujících plošnou neuniformitu optických parameterů. Tato metoda využívá originální zobrazovací fotometr pracující v režimu odrazivosti při kolmém dopadu světla. Coby detektor slouží CCD kamera. Spektrální závislosti odrazivosti charakterizované vrstvy jsou tak měřeny v malých oblastech povrchu odpovídajících jednotlivým pixelům CCD kamery. Tyto oblasti tvoří mřížku podél velké části povrchu vrstvy. Spektrální závislosti měření v jednotlivých pixelech jsou zpracovány nezávisle pomocí vzorců pro uniformní tenké vrstvy. S použitím těchto vzorců je možno určit honoty lokální tloušťky a optických konstant v každém místě mřížky. Takto lze současně určit rozdělení (mapu) lokální tloušťky a optických konstant neuniformní vrstvy. Popsaná metoda byla použita k charakterizaci vrstev nitridu uhlíku vykazujících neuniformitu pouze v tloušťce. Vrsvty byly připraveny metodou dielektrického bariérového výboje na křemíkové podložky. |
| Související projekty: |