Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering

• Název česky: Vilv teploty neutrálního plynu na reaktivní magnetronové naprašování
• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2010
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: magnetron sputtering; modelling; temperature; hysteresis
• Popis: Teplota je důležitým parametrem, který ovlivňuje celý rozprašovací proces. Pro vyšetření vlivu různých teplot v reaktoru na hysterezní chování při procesu rozprašování byl použit model reaktivního magnetronového naprašování. Prezentuje posun ve skocích mezi dvěma módy reaktivního rozprašováního procesu.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
• Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace