Deposition of DLC:Si(O) Films in Low Pressure Discharges

• Autoři: ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; PEŘINA Vratislav; MACKOVÁ Anna; JANČA Jan
• Rok publikování: 2001
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: DLC; Plasma Enhanced CVD; RF Discharges
• Popis: Study of the properties of silicon doped DLC films deposited in rf low pressure discharges. Investigation of the influence of the deposition parameters on the film properties.

Související projekty

• Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
• Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
• Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
• Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek