Informace o publikaci
Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas
| Název česky | Aktinometrie pro porozumění plazmochemické depozice tenkých vrstev z O2/HMDSO plazmatu |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Proceedings of the XXVII ICPIG |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://www.icpig2005.nl/cd/D:/Proceedings_ICPIG_2005.html |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | actinometry; HMDSO; optical emission spectroscopy |
| Popis | Použili jsme aktinometrii pro odhad disociačního koeficientu kyslíku v kapacitně vázaných výbojích používaných při depozicích z 02/HMDSO. Disociační stupeň v čistém kyslíku rostl s rostoucím výkonem a vykazoval maximum 20% při tlaku 5 Pa. Přesto tento disociační stupeň nebyl dostatečně vysoký, aby bylo možné vytvářet vrstvy podobné SiO2, protože při 5 Pa bylo stále ještě velké množství HMDSO ve směsi. Pokles disociačního stupně na 2-4% při vyšších průtocích kyslíku, tedy i tlacích, měl za následek nedostatečnou oxidaci vrstev rostoucích ze směsi obsahující větší procento 02. |
| Související projekty: |