Informace o projektu

Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou

Kód projektu
1K05025
Období řešení
1/2005 - 12/2007
Investor / Programový rámec / typ projektu
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
Fakulta / Pracoviště MU
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova
plazmochemická depozice, PECVD, organosilikony, plazmové polymery, tvrdé vrstvy, plazmová modifikace

Cílem projektu je příprava nových Si-O-C:H polymerů variabilních ve své nanostruktuře i organicko-anorganickém charakteru a příprava tvrdých ochranných Si-O-C a Si-N-C vrstev vykazujících nízké vnitřní pnutí a dobrou adhezi k různým substrátům. Tyto materiály budou připravovány v kontinuálním a pulzním režimu vf. doutnavého výboje za použití organosilikonových reaktantů. Vlastnosti vrstev budou optimalizovány pro předpokládané aplikace změnou depozičních parametrů, především složením reakční směsi, stupněm iontového bombardu, délkou trvání pulzu a dobou mezi pulzy. Procesy během depozice budou studovány několika metodami diagnostiky plazmatu, aby došlo k porozumění vlivu těchto procesů na výsledné vlastnosti vrstev. Zároveň bude stanoven postup plazmového ošetření povrchu substrátu vedoucí k dobré adhezi vrstev. Výsledky budou prezentovány na mezinárodních konferencích a publikovány v recenzovaných časopisech.

Publikace

2008

2007

2006

Předchozí 1 2 Další

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info