Informace o projektu

Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou

Kód projektu
1K05025
Období řešení
1/2005 - 12/2007
Investor/Program
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
Fakulta/Pracoviště MU
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova
plazmochemická depozice, PECVD, organosilikony, plazmové polymery, tvrdé vrstvy, plazmová modifikace

Cílem projektu je příprava nových Si-O-C:H polymerů variabilních ve své nanostruktuře i organicko-anorganickém charakteru a příprava tvrdých ochranných Si-O-C a Si-N-C vrstev vykazujících nízké vnitřní pnutí a dobrou adhezi k různým substrátům. Tyto materiály budou připravovány v kontinuálním a pulzním režimu vf. doutnavého výboje za použití organosilikonových reaktantů. Vlastnosti vrstev budou optimalizovány pro předpokládané aplikace změnou depozičních parametrů, především složením reakční směsi, stupněm iontového bombardu, délkou trvání pulzu a dobou mezi pulzy. Procesy během depozice budou studovány několika metodami diagnostiky plazmatu, aby došlo k porozumění vlivu těchto procesů na výsledné vlastnosti vrstev. Zároveň bude stanoven postup plazmového ošetření povrchu substrátu vedoucí k dobré adhezi vrstev. Výsledky budou prezentovány na mezinárodních konferencích a publikovány v recenzovaných časopisech.

Publikace

2008

Composition and functional properties of organosilicon plasma polymers from hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane

ZAJÍČKOVÁ Lenka — KUČEROVÁ Zuzana — BURŠÍKOVÁ VilmaFRANTA Daniel — PEŘINA Vratislav — MACKOVÁ Anna

2007

Comparative Study of Films Deposited from HMDSO/O2 in Continuous Wave and Pulsed rf Discharges

ZAJÍČKOVÁ LenkaBURŠÍKOVÁ VilmaFRANTA Daniel — BOUSQUET Angelique — GRANIER Agnes — GOULLET Antoine — BURŠÍK Jiří

Deposition and Characterization of Nanostructured Silicon-Oxide Containing Diamond-Like Carbon Coatings

BURŠÍKOVÁ VilmaDVOŘÁK PavelZAJÍČKOVÁ LenkaFRANTA DanielJANČA JanBURŠÍK Jiří — SOBOTA Jaroslav — KLAPETEK Petr — BLÁHOVÁ Olga — PEŘINA Vratislav

Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges

ZAJÍČKOVÁ LenkaBURŠÍKOVÁ Vilma — KUČEROVÁ Zuzana — FRANTA DanielDVOŘÁK Pavel — ŠMÍD Radek — PEŘINA Vratislav — MACKOVÁ Anna

Models of dielectric response in disordered solids

FRANTA DanielNEČAS DavidZAJÍČKOVÁ Lenka

Organosilicon thin films deposited by plasma enhanced CVD: Thermal changes of chemical structure and mechanical properties

ZAJÍČKOVÁ LenkaBURŠÍKOVÁ Vilma — KUČEROVÁ Zuzana — FRANCLOVÁ Jana — SŤAHEL Pavel — PEŘINA Vratislav — MACKOVÁ Anna

Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers

ZAJÍČKOVÁ Lenka — KUČEROVÁ Zuzana — FRANTA DanielBURŠÍKOVÁ VilmaBURŠÍK JiříSŤAHEL Pavel — KLAPETEK Petr

2006

Deposition of protective couatings in RF organosilicon discharges

ZAJÍČKOVÁ LenkaBURŠÍKOVÁ VilmaFRANTA Daniel — KUČEROVÁ Zuzana — BOUSQUET Angelique — GOULLET Antoine — GRANIER Agnes

Modeling of DLC Optical Properties Based on Parameterization of Density of States

FRANTA DanielNEČAS DavidZAJÍČKOVÁ LenkaBURŠÍKOVÁ Vilma

Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states

FRANTA DanielZAJÍČKOVÁ Lenka — BEGOU Thomas — BOUSQUET Angelique — GRANIER Agnes — BECHE Bruno — GOULLET Antoine

Předchozí 1 2 Další

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info