doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
docentka – Ústav fyziky kondenzovaných látek
korespondenční adresa:
Kotlářská 267/2, 611 37 Brno
kancelář: E112
Kolejní 2906/4
612 00 Brno
telefon: | 541 149 223 |
---|---|
e‑mail: |
sociální a akademické sítě: |
---|
Počet publikací: 339
2001
-
Stanovení povrchové energie tenkých vrstev nanášených v plazmatu vysokofrekvenčního výboje
JUNIORMAT 01, rok: 2001
-
The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge
Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
-
Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor
JUNIORMAT 01, rok: 2001
-
XPS and Ellipsometric Study of DLC/Silicon Interface
Vacuum, rok: 2001, ročník: 61, vydání: 2-4
2000
-
Deposition of nanocomposite CNx/SiO films in inductively coupled r.f. discharge
Diamond and Related Materials, rok: 2000, ročník: 9, vydání: 7
-
Deposits from Hexamethyldisiloxane in a Dielectric Barrier Discharge at Atmospheric Pressure
Proceedings of HAKONE VII, rok: 2000
-
Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 2000, vydání: 50(S3)
-
Influence of Discharge Parameters on Composition of Films Deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane/Oxygen Mixtures
Abstracts of Invited Lectures and Contributed Papers, XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases, rok: 2000
-
Low Pressure Plasma Treatment of Polycarbonate
Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Pressure Plasma, rok: 2000
-
Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon incorporated diamond-like carbon films
Abstracts of Invited Lecturers and Contributed Papers ,XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases, rok: 2000