doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
docentka – Ústav fyziky kondenzovaných látek
korespondenční adresa:
Kotlářská 267/2, 611 37 Brno
kancelář: E112
Kolejní 2906/4
612 00 Brno
| telefon: | 541 149 223 |
|---|---|
| e‑mail: |
| sociální a akademické sítě: |
|---|
Počet publikací: 346
2001
-
Optical characterization of DLC:Si films prepared by PECVD
Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes, rok: 2001
-
Optical Properties of Si Incorporated Diamond-like Carbon Films Deposited by RF PECVD
JUNIORMAT 01, rok: 2001
-
Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds
Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
-
Plasma modification of polycarbonates
Surface & coatings technology, rok: 2001, ročník: 2001, vydání: 142-144
-
Preparation of enhanced CN-based hard coatings by PECVD
Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
-
Probe measurements in capacitively coupled rf discharge
WDS'01, Proceedings of contributed papers, Part II, Physics of Plasmas and Ionized Media, rok: 2001
-
Stanovení povrchové energie diamantu-podobných vrstev nanášených v plazmatu vysokofrekvenčního výboje
53, ZJAZD CHEMICKÝCH SPOLOČNOSTÍ, Zborník príspevkov, rok: 2001
-
Stanovení povrchové energie tenkých vrstev nanášených v plazmatu vysokofrekvenčního výboje
JUNIORMAT 01, rok: 2001
-
The deposition process based on silicon-organic compounds (HMDSO, TEOS) in two different types of an atmospheric barrier discharge
Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2001
-
Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor
JUNIORMAT 01, rok: 2001