prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
vedoucí pracoviště – Optika tenkých vrstev a povrchů pevných látek
kancelář: pav. 06/01031
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
| telefon: | 549 49 6244 |
|---|---|
| e‑mail: |
| sociální a akademické sítě: |
|---|
Počet publikací: 204
2019
-
Temperature dependent dispersion models applicable in solid state physics
Journal of Electrical Engineering, rok: 2019, ročník: 70, vydání: 7, DOI
2018
-
Determination of thicknesses and temperatures of crystalline silicon wafers from optical measurements in the far infrared region
Journal of Applied Physics, rok: 2018, ročník: 123, vydání: 18, DOI
-
Different theoretical approaches at optical characterization of randomly rough silicon surfaces covered with native oxide layers
Surface and Interface Analysis, rok: 2018, ročník: 50, vydání: 11, DOI
-
Ellipsometry of Layered Systems
Optical Characterization of Thin Solid Films, rok: 2018, počet stran: 35 s.
-
Optical Characterization of Thin Films Exhibiting Defects
Optical Characterization of Thin Solid Films, rok: 2018, počet stran: 43 s.
-
Optical quantities of multi-layer systems with randomly rough boundaries calculated using the exact approach of the Rayleigh–Rice theory
Journal of modern optics, rok: 2018, ročník: 65, vydání: 14, DOI
-
Use of the Richardson extrapolation in optics of inhomogeneous layers: Application to optical characterization
Surface and Interface Analysis, rok: 2018, ročník: 50, vydání: 7, DOI
2017
-
Determination of local thickness values of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometer with enhanced spatial resolution
Measurement Science and Technology, rok: 2017, ročník: 28, vydání: 2, DOI
-
Dispersion models describing interband electronic transitions combining Tauc's law and Lorentz model
Thin Solid Films, rok: 2017, ročník: 631, vydání: June, DOI
-
Ellipsometric and reflectometric characterization of thin films exhibiting thickness non-uniformity and boundary roughness
Applied Surface Science, rok: 2017, ročník: 421, vydání: November, DOI