Deposition of nanocomposite CNx/SiO films in inductively coupled r.f. discharge

• Autoři: ELIÁŠ Marek; ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; JANČA Jan; LORENC Michal
• Rok publikování: 2000
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Diamond and Related Materials
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Carbon; Ellipsometry; Nitrides; Mechanical properties
• Popis: Nanocomposite CNx/SiO thin films

Související projekty

• Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
• Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
• Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
• Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
• Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek