DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHEREIN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE

• Název česky: DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
• Autoři: STUDNIČKA Filip; TRUNEC David; SŤAHEL Pavel; BURŠÍKOVÁ Vilma; KELAR Lukáš
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: plasma deposition
• Popis: Článek se zabývá depozicí tenkých vrstev v atmosférickém homogenním výboji ve směsi N2 + HMDSO + O2. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly změřeny metodou indentační a tvrdost vrstev byla v rozmezí 0.5 až 7 GPa v závislosti na depozičních podmínkách.

Související projekty

• Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku