doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
docentka – Ústav fyziky kondenzovaných látek
korespondenční adresa:
Kotlářská 267/2, 611 37 Brno
kancelář: E112
Kolejní 2906/4
612 00 Brno
| telefon: | 541 149 223 |
|---|---|
| e‑mail: |
| sociální a akademické sítě: |
|---|
Počet publikací: 346
1999
-
Plasma-Liquid Technologies for Treatment of Archaelogical Artifacts
Czech. J. Physics, rok: 1999, ročník: 49, vydání: 3
-
Plazmochemicka depozice oteruvzdornych tenkych vrstev na plastickych materialech
Jemná mechanika a optika, rok: 1999, ročník: 1999, vydání: 7-8
-
Plazmová depozice ochranných vrstev na bázi uhlíku
Materiálové vědy na prahu 3. milénia, rok: 1999
-
Plazmova depozice oteruvzdornych ochrannych vrstev na polykarbonatech a vliv teploty substratu na vlastnosti techto vrstev
Materialove vedy na prahu 3. milenia, rok: 1999
-
The influence of substrate emissivity on plasma enhanced CVD of diamond-like carbon films
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 1999, ročník: 49, vydání: 8
1998
-
Diagnostics of HF Plasma Pencil
ESCAMPIG 98, rok: 1998
-
HF Plasma Pencil for Plasmachemical Treatment of Materials
ICPP, rok: 1998
-
Influence of Deposition Parameters on Mechanical Properties opf SiO2-like Protective Coatings
ICPP, rok: 1998
-
Influence of Substrate and Electrode Emissivity on Plasma Enhanced CVD
Proceeding of Thin Film Nucleation Growth and Analysis, rok: 1998
-
Influence of Substrate Emisivity on Plasma Enhanced CVD
ESCAMPIG 98, rok: 1998